X熒光光譜分析儀的定量分析是一種相對分析技術，在對試樣的是選擇上還是需要有一定的要求的，定量分析對度料有很嚴格的要求，這些要求因樣品形態不同而異。
①塊狀試料
對各種塊、板或鑄件等不定形試樣，可用切割機、研磨機等加工成一定尺寸的試料；金屬粒、絲等可經重熔，鑄成平塊試料。試料照射面應能代表試料整體。
②膜狀試料
用薄膜材料制備膜狀試料時要特注意薄膜厚度的一-致性及組成的均勻性。測量時為使薄膜平整鋪開，可加內襯材料作為支撐物，盡量選取用背景低的內襯材料。
③粉狀試料
粉末、顆粒以及組成不均勻的塊狀樣品可用粉碎機、研磨機等研磨至一定的粒度，取適當量直接壓片,必要時可加稀釋劑混勻或粘合劑加壓成具有光潔表面的試料，也可用硼酸鹽等作為熔劑熔解試樣，鑄成均勻性好的玻璃熔塊，或再粉碎熔塊加壓成型。
④液體試料
測定液體樣品時要定量分取試液裝入液杯。測定時要注意避免試液揮發、泄漏、產生氣泡或沉淀等現象。也可取液體樣品滴加到適當載體（如濾紙）上干燥后測量。
定量分析方法
在分析時，會有試料的污染，受到污染的試料將造成分析誤差。X射線熒光光譜分析中要特別注意度料表面污染，制樣過程中應注意的污染有以下幾方面：
a)來自粉碎機、研磨機材質的污染；
b)在溶解、熔融過程中來自容器的污染；
c)試驗室工作環境的污染；
d)試劑的污染；
e)用手觸及試料表面時造成的污染；
f)內襯材料的污染；
g)粉末試樣加壓成型時造成的污染。