全反射X熒光光譜儀是什么樣的儀器，相對于X熒光光譜儀又有什么樣的不同？我們來了解一下。
全反射X熒光光譜儀，當然是采用全反射X熒光技術，它是基于X熒光能譜技術，但是對比X射線能譜技術，目前的X熒光能譜技術采用的事以原級X光束以45°角轟擊樣品，全反射采用毫弧度的臨界角（接近于零度角）入射。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生，減小了載體的背景和噪聲，減少樣品使用量。
目前，此種光譜儀廣泛的應用在環境分析（水、灰塵、沉積物、大氣懸浮物），制藥分析（生物體液和組織樣品中的有害元素），法醫學（微小證據分析），化學純度分析（酸、堿、鹽、溶劑、水、超純試劑），油品分析（原油、輕質油、燃料油），染料分析（墨水、油漆、粉末），半導體材料分析（揮發相分解），核材料工業（放射性元素分析）。
X熒光光譜儀，此種檢測儀器分析速度快。測定用時與測定精密度有關，但一般都很短，2～5分鐘就可以測完樣品中的全部待測元素。可檢測多種狀態的樣品，固體、粉末、液體及晶質、非晶質等物質的狀態，即使是氣體，只要氣體密封在容器內也可以分析。
它也是一種非破壞分析。在測定中不會引起化學狀態的改變，也不會出現試樣飛散現象。同一試樣可反復多次測量，結果重現性好。X射線熒光分析是一種物理分析方法，所以對在化學性質上屬同一族的元素也能進行分析。分析精密度高。
X熒光光譜儀，您檢驗檢測的好幫手。