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使用熔融法制樣進行XRF分析,影響X熒光光譜分析測量結果的因素
發(fā)布時間:2020-04-14 點擊:2706

在使用X射線熒光法測量,熔融法制樣是目前來說一種比較廣泛的制樣方法。使用測量后,有些因素是會影響到樣品的測量結果,除去儀器本身的誤差外,在制樣過程中,有些環(huán)節(jié)對測量的結果會產生一定的影響,那如何消除這些誤差因素是我們在常規(guī)制樣時所需要考慮的了。

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(1)首先一個就是在熔融制樣時,樣品表面產生的燒損,這些肯定是會對樣品的檢測產生影響。

(2)另外就是樣品的冷卻速度,冷卻需要慢慢的,如果冷卻速度太快,冷卻的越快,對結果的影響就會越大。

(3)樣品的預氧化對于準確度(對S和AS)的影響也很大,還有試樣的組成情況對全鐵影響也不小。

(4)當前主流XRF綜合穩(wěn)定度均優(yōu)于0.1%。因此XRF分析誤差主要由樣品所引起,更確切地說,是由于制樣產生的樣品高度誤差以及樣品定位誤差所引起。有關實驗表明,采用鉑/金坩堝鑄型的自動熔樣機制備的玻璃熔片,表面曲率的變化導致的樣品定位誤差可高達100微米。有些粉末壓片后分析表面可能因膨脹而出現(xiàn)彎曲(例如含高硅的樣品),富含碳酸鈣的樣品有時也可能發(fā)生彎曲。近來,一些XRF主力廠商紛紛將其新品由上照射方式改為下照射方式,一是簡化XRF結構,更重要的考慮則是減小樣品定位誤差。

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