正確使用直讀光譜儀可獲取理想檢測(cè)數(shù)據(jù)，其本身檢測(cè)能力強(qiáng)，但會(huì)因?yàn)椴僮鳝h(huán)節(jié)中出現(xiàn)的不當(dāng)，會(huì)影響檢測(cè)數(shù)據(jù)，結(jié)果與真實(shí)含量不一致，有誤差，這其中關(guān)聯(lián)到諸多因素。
系統(tǒng)誤差的介入
1、標(biāo)樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不完全相同時(shí)，可能引起基體線和分析線的強(qiáng)度改變，從而引入誤差。
2、標(biāo)樣和試樣的物理性能不完全相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線會(huì)有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。
3、澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時(shí)，測(cè)出的數(shù)據(jù)會(huì)有所差別。
4、未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時(shí)，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
5、要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對(duì)結(jié)果。
直讀光譜儀的檢測(cè)應(yīng)用
偶然誤差的出現(xiàn)
與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。因?yàn)楣怆姽庾V分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性，導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同而產(chǎn)生偶然誤差。主要原因如下：
1、熔煉過程中帶入夾雜物，產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均。
2、試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
3、磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時(shí)間太長(zhǎng)和壓上指紋等因素。
4、要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復(fù)多次分析來降低分析誤差。
因?yàn)橄到y(tǒng)誤差和偶然誤差的出現(xiàn)，對(duì)直讀光譜儀的檢測(cè)數(shù)據(jù)會(huì)造成影響，是需要注意的。