X射線熒光光譜分析儀的種類有很多，之前大多是講的能量色散型和波長色散型，但，但是還有其他種類的。科研工作者不斷的發(fā)展、豐富X熒光光譜儀種類，拓展分析技術(shù)。其中，有一種就是全反射X射線熒光光譜儀。
全反射X射線熒光分析(TXRF)實質(zhì)上是能量色散X射線熒光(EDXRF)分析技術(shù)的拓展，它是20世紀(jì)80年代在能量色散X射線熒光分析基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新的儀器分析技術(shù)。
近幾年來，全反射X射線熒光分析技術(shù)正引起X射線光譜分析工作者的極大興趣和關(guān)注，在工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)、地質(zhì)勘探、環(huán)境保護(hù)、科學(xué)研究等部門中得到了廣泛的推廣應(yīng)用。
目前，TXRF分析靈敏度已提高到10-15g級，并將其應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)一步拓寬到超薄層分析(nm級)、結(jié)構(gòu)分析、剖面分析和超大規(guī)模集成電路材料表面分析(對表面污染的分析能力已達(dá)到108原子/ cm2)；分析元素的范圍可從原子序數(shù)11(Na)到92(U)，如采用超簿窗探測器和無窗X射線管，還可測定輕于Na的元素；TXRF用于痕量分析可與中子活化分析(NAA)、原子吸收光譜(AAS)、電感耦合等離子體-原子發(fā)射光譜( ICP-AES)、電感耦合等離子體-質(zhì)譜( ICP-MS)、火花源質(zhì)譜(SSMS)等先進(jìn)技術(shù)媲美，于表面分析可與次級離子質(zhì)譜(SIMS)、X射線光電子譜(XPS)和盧瑟福反向散射光譜(RBS)等現(xiàn)代儀器爭優(yōu)。因此，TXRF分析被譽(yù)為目前國際上最具競爭力的分析工具，具有美好的開發(fā)和應(yīng)用前景。