X射線熒光光譜分析儀的種類有很多，之前大多是講的能量色散型和波長色散型，但，但是還有其他種類的。科研工作者不斷的發展、豐富X熒光光譜儀種類，拓展分析技術。其中，有一種就是全反射X射線熒光光譜儀。
全反射X射線熒光分析(TXRF)實質上是能量色散X射線熒光(EDXRF)分析技術的拓展，它是20世紀80年代在能量色散X射線熒光分析基礎上發展起來的新的儀器分析技術。
近幾年來，全反射X射線熒光分析技術正引起X射線光譜分析工作者的極大興趣和關注，在工農業生產、地質勘探、環境保護、科學研究等部門中得到了廣泛的推廣應用。
目前，TXRF分析靈敏度已提高到10-15g級，并將其應用領域進一步拓寬到超薄層分析(nm級)、結構分析、剖面分析和超大規模集成電路材料表面分析(對表面污染的分析能力已達到108原子/ cm2)；分析元素的范圍可從原子序數11(Na)到92(U)，如采用超簿窗探測器和無窗X射線管，還可測定輕于Na的元素；TXRF用于痕量分析可與中子活化分析(NAA)、原子吸收光譜(AAS)、電感耦合等離子體-原子發射光譜( ICP-AES)、電感耦合等離子體-質譜( ICP-MS)、火花源質譜(SSMS)等先進技術媲美，于表面分析可與次級離子質譜(SIMS)、X射線光電子譜(XPS)和盧瑟福反向散射光譜(RBS)等現代儀器爭優。因此，TXRF分析被譽為目前國際上最具競爭力的分析工具，具有美好的開發和應用前景。